





立式濕氧化爐技術(shù)指標(biāo)
◎適用范圍:適用于VCSEL等光電器件的熱氧化工藝
◎精準(zhǔn)的溫控與均勻性:能在300℃至500℃的關(guān)鍵溫度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高均勻性加熱,可在此范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)≤±1℃的溫度精準(zhǔn)控制
◎水汽控制:能精確控制水汽發(fā)生和輸送,保證反應(yīng)環(huán)境穩(wěn)定
◎批量處理與自動化:支持單次25-75片晶圓同時處理,并具備全自動晶圓搬運(yùn)功能,滿足量產(chǎn)需求
立式濕氧化爐技術(shù)指標(biāo)
◎適用范圍:適用于VCSEL等光電器件的熱氧化工藝
◎精準(zhǔn)的溫控與均勻性:能在300℃至500℃的關(guān)鍵溫度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高均勻性加熱,可在此范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)≤±1℃的溫度精準(zhǔn)控制
◎水汽控制:能精確控制水汽發(fā)生和輸送,保證反應(yīng)環(huán)境穩(wěn)定
◎批量處理與自動化:支持單次25-75片晶圓同時處理,并具備全自動晶圓搬運(yùn)功能,滿足量產(chǎn)需求
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