





立式固化爐技術指標
◎適用范圍:適用半導體領域PI固化、退火、烘干等工藝
◎工作溫度及均勻性:能在50℃到500℃范圍內實現精準的溫度控制,并能實現快速降溫
◎先進的顆??刂?/span>
◎先進氧含量監測
◎批量處理與自動化:支持單次25-75片晶圓同時處理,并具備全自動晶圓搬運功能,滿足量產需求
立式固化爐技術指標
◎適用范圍:適用半導體領域PI固化、退火、烘干等工藝
◎工作溫度及均勻性:能在50℃到500℃范圍內實現精準的溫度控制,并能實現快速降溫
◎先進的顆??刂?/span>
◎先進氧含量監測
◎批量處理與自動化:支持單次25-75片晶圓同時處理,并具備全自動晶圓搬運功能,滿足量產需求
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